據(jù)韓國《金融新聞》1月14日報道，臺積電（TSMS）和三星電子為確保2納米工藝的制造設(shè)備開始了合縱連橫的競爭。1月13日，根據(jù)業(yè)界透露，TSMC決定收購英特爾擁有的極紫外光（EUV）光掩膜制造企業(yè)IMS的10%股份，并決定投資不超過1億美元認(rèn)購英國半導(dǎo)體設(shè)計(jì)企業(yè)ARM公開募股的股份。業(yè)界認(rèn)為，TSMC收購IMS股份因?yàn)樵撈髽I(yè)占據(jù)了光掩膜制造設(shè)備98%的市場，可以說如果沒有IMS的設(shè)備，ASML的EUV曝光設(shè)備也是無用之物。正在追趕TSMC的三星電子也不斷鞏固與ASML的同盟。據(jù)悉，制造2納米以下超微工程半導(dǎo)體所需的新一代EUV曝光設(shè)備將于年內(nèi)推出試制品，并于明年正式供貨。三星電子正在致力于確保相關(guān)設(shè)備的數(shù)量。業(yè)界人士預(yù)測，將來的超微工程對EUV曝光設(shè)備的依賴度很高，包括三星在內(nèi)的半導(dǎo)體企業(yè)對ASML設(shè)備的爭奪戰(zhàn)將比以往更加激烈。